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KS500ES – KENOSISTEC

Il sistema di evaporazione da fascio elettronico e di sputtering a radiofrequenza è volto alla crescita di materiali e di nanostrutture di diversi materiali. La macchina è costituita da una camera di ultraalto vuoto in cui vengono alloggiati i campioni da depositare su un apposito supporto che consente di effettuare processi termici fino a temperature di 500°C. Il porta campione può essere messo in rotazione per garantire l’uniformità del deposito con tolleranza entro il 5% . Il sistema consente di realizzare attacchi del campione tramite etching in plasma in atmosfera controllata. La deposizione di materiale può avvenire tramite sputtering in condizioni di pressione e temperatura controllate, il flusso ed il tipo di gas possono essere variati ed è possibile introdurre simultaneamente fino a due gas di processo diversi per ottimizzare le condizioni di crescita. Il macchinario è predisposto per consentire l’aggiunta di altri catodi, con la possibilità di co-sputterare simultaneamente diversi materiali. La sintesi di nuovi materiali può avvenire, sempre nella stessa camera, anche mediante il procedimento di evaporazione da fascio elettronico cambiando la configurazione del sistema. In questo caso si dispone di una microbilancia al quarzo che consente di controllare con precisione lo rate e lo spessore del deposito tramite un sistema di feedback. Inoltre, cambiando la sorgente da evaporare si possono realizzare multilayer di diversi materiali con deposizioni successive nello stesso ciclo di crescita, senza interrompere le condizioni di vuoto. Infatti disponiamo di crogioli ottimizzati per la lavorazione con diverse tipologie di sorgenti, dai metalli agli isolanti. Questa apparecchiatura d’avanguardia consente di realizzare processi di deposizione, per entrambe le configurazioni di sputtering e di evaporazione, sia in modalità manuale che in maniera automatica una volta ottimizzate le condizioni di crescita.

Nome e marca dello strumento KS500ES – KENOSISTEC
Ubicazione NANI-Lab (Nuovi Avanzati Nanomateriali per applicazioni Innovative) – MESSINA
Anno fabbricazione/installazione 2013
Descrizione caratteristiche operative Il sistema di evaporazione da fascio elettronico e di sputtering a radiofrequenza è volto alla crescita di materiali e di nanostrutture di diversi materiali. La macchina è costituita da una camera di ultraalto vuoto in cui vengono alloggiati i campioni da depositare su un apposito supporto che consente di effettuare processi termici fino a temperature di 500°C. Il porta campione può essere messo in rotazione per garantire l’uniformità del deposito con tolleranza entro il 5% . Il sistema consente di realizzare attacchi del campione tramite etching in plasma in atmosfera controllata. La deposizione di materiale può avvenire tramite sputtering in condizioni di pressione e temperatura controllate, il flusso ed il tipo di gas possono essere variati ed è possibile introdurre simultaneamente fino a due gas di processo diversi per ottimizzare le condizioni di crescita. Il macchinario è predisposto per consentire l’aggiunta di altri catodi, con la possibilità di co-sputterare simultaneamente diversi materiali. La sintesi di nuovi materiali può avvenire, sempre nella stessa camera, anche mediante il procedimento di evaporazione da fascio elettronico cambiando la configurazione del sistema. In questo caso si dispone di una microbilancia al quarzo che consente di controllare con precisione lo rate e lo spessore del deposito tramite un sistema di feedback. Inoltre, cambiando la sorgente da evaporare si possono realizzare multilayer di diversi materiali con deposizioni successive nello stesso ciclo di crescita, senza interrompere le condizioni di vuoto. Infatti disponiamo di crogioli ottimizzati per la lavorazione con diverse tipologie di sorgenti, dai metalli agli isolanti. Questa apparecchiatura d’avanguardia consente di realizzare processi di deposizione, per entrambe le configurazioni di sputtering e di evaporazione, sia in modalità manuale che in maniera automatica una volta ottimizzate le condizioni di crescita.
L’utilizzo della macchina è volto alla realizzazione di nuovi materiali innovativi con particolari proprietà ottiche ed elettroniche, quali film sottili e nanostrutture di vari materiali. Si dispone di diverse sorgenti di materiali sia per sputtering che per evaporazione, quali metalli (Ag, Au, Cu, Pt, Ti, Ni, Co, etc..), isolanti ( SiO2, TiO2, ZnO, etc..) ed ossidi trasparenti conduttivi (FTO, AZO).
Campi di applicazione Questo sistema di evaporazione e sputtering di materiali consente la realizzazione di diversi materiali innovativi con tecniche compatibili con i processi industriali. In particolare vengono realizzati film sottili e nanostrutture di semiconduttori (Si, Ge, etc.) e di metalli (Au, Ag, etc..) con caratteristiche strutturali controllate mediante i parametri di deposizione. Le proprietà chimico-fisiche di questi nano materiali sono modulabili in funzione dei parametri strutturali per diverse applicazioni. In particolare, ci si è dedicati alla sintesi di nanofili di silicio realizzati mediante film di oro percolativi con disposizione frattale, utilizzati come catalizzatori per l’attacco chimico assistito da metalli dei substrati di silicio. In questo modo si realizzano densi array di nanofili di Si allineati verticalmente con geometria frattale lungo il piano senza l’ausilio di processi litografici o di maschere. Con questo approccio a basso costo e facilmente integrabile con i processi industriali, si ottengono nanofili con parametri strutturali controllabili quali diametro, lunghezza e densità, che mantengono lo stesso drogaggio ed orientazione cristallografica del substrato di partenza. Questi peculiari nanomateriali sono confinati quarticamente e per questo godono di nuove proprietà di forte impatto quali un’intensa emissione di luce a temperatura ambiente la cui lunghezza d’onda può essere variata a seconda del diametro dei nanofili. Siamo in grado di controllare la morfologia per ottenere geometrie frattali che sono estremamente promettenti per l’intrappolamento di luce su un range molto ampio di lunghezze d’onda, una caratteristica strategica per applicazione nel campo della miapolazione della luce e del fotovoltaico. Forti di queste innovative proprietà abbiamo realizzato dispositivi basati sull’emissione di luce dei nanofili pompata sia otticamente che elettricamente che siano operanti a diverse lunghezze d’onda (visibile e infrarosso) di interesse strategico per la fotonica su silicio e per il campo delle telecomunicazioni.
Note sullo stato d’uso dello strumento  Attualmente funzionante e disponibile per sessioni di crescita di materiali. Il sistema è soggetto a regolare manutenzione ed il suo periodo di funzionamento è previsto per tutto l’anno.
Responsabile
Nome e Cognome Alessia Irrera
Email irrera@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 266

Zetapals Brookhaven

Laser Doppler Elettroforesi. Misura della mobilità elettroforetica di colloidi mediante tecniche di scattering di luce.

Nome e marca dello strumento Zetapals Brookhaven
Ubicazione Laboratorio Dinamica Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2000
Descrizione caratteristiche operative Misura della mobilità elettroforetica di colloidi mediante tecniche di scattering di luce.
Campi di applicazione Riconoscimento molecolare, farmaceutica, vernici, industria alimentare.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Valentina Villari
Email villari@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 219

Axiovert 100 Zeiss

Microscopio a fluorescenza. Microscopio a fluorescenza con accessorio confocale CARV e con possibilità di misurare spettri UV-Vis e di fluorescenza.

Nome e marca dello strumento Axiovert 100 Zeiss
Ubicazione Laboratorio Riconoscimento Molecolare (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2002
Descrizione caratteristiche operative Microscopio a fluorescenza con accessorio confocale CARV e con possibilità di misurare spettri UV-Vis e di fluorescenza.
Campi di applicazione Aggregazione colloidale di fotoluminescenti. Verifica internalizzazione cellulare di fluorofori.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Valentina Villari
Email villari@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 219

Laser Ti:Sa MaiTai + DeepSee Spectra Physics

Laser al femtosecondo con duplicatore. Sistema tunabile (350-500 nm e 700-1000 nm) per misure di fluorescenza risolta nel tempo, fluorescenza a due fotoni e generazione di seconda armonica.

Nome e marca dello strumento Laser Ti:Sa MaiTai + DeepSee Spectra Physics
Ubicazione Laboratorio Struttura Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2016
Descrizione caratteristiche operative Sistema tunabile (350-500 nm e 700-1000 nm) per misure di fluorescenza risolta nel tempo, fluorescenza a due fotoni e generazione di seconda armonica.
Campi di applicazione Spettroscopia risolta nel tempo e ottica non lineare.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Norberto Liborio Micali
Email micali@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 221

Spettrometro BM Spectronik (sistema assemblato)

Scattering Raman Risonante. Laser LASOS 473 nm 50 mW con Spettrometro BM Spectronik 1 m di focale.

Nome e marca dello strumento Spettrometro BM Spectronik (sistema assemblato)
Ubicazione Laboratorio Struttura Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2015
Descrizione caratteristiche operative Laser LASOS 473 nm 50 mW con Spettrometro BM Spectronik 1 m di focale.
Campi di applicazione Individuazione e quantificazione di specie chimiche in soluzione e in tessuti biologici
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Norberto Liborio Micali
Email micali@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 221

Correlatore Malvern 4700

Sistema per Light Scattering (statico e dinamico). Correlatore digitale per light scattering per la misura del moto diffusivo in sistemi dispersi.

Nome e marca dello strumento Correlatore Malvern 4700
Ubicazione Laboratorio Dinamica Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 1987
Descrizione caratteristiche operative Correlatore digitale per light scattering per la misura del moto diffusivo in sistemi dispersi.
Campi di applicazione Fisica dei sistemi dispersi, farmaceutica, controllo ambientale.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Norberto Liborio Micali
Email micali@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 221

Spettrofotometro J-500A JASCO

Spettrofotometro per dicroismo circolare. Misura della chiralità, ellissometria

Nome e marca dello strumento Spettrofotometro J-500A JASCO
Ubicazione Laboratorio Riconoscimento Molecolare (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 1975
Descrizione caratteristiche operative Misura della chiralità, ellissometria
Campi di applicazione Attività ottica e riconoscimento molecolare.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Norberto Liborio Micali
Email micali@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 221

N2 Laser + GL3300 PTI

Laser pulsato ad azoto dotato di dye laser e duplicatore di frequenza. Durata impulso 0.5 ns, repetition rate fino a 30 Hz, potenza massima dell’impulso 1.5mJ.

Nome e marca dello strumento N2 Laser + GL3300 PTI
Ubicazione Laboratorio Struttura Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2002
Descrizione caratteristiche operative Durata impulso 0.5 ns, repetition rate fino a 30 Hz, potenza massima dell’impulso 1.5mJ.
Campi di applicazione Spettroscopia di fluorescenza risolta nel tempo, laser ablation.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Norberto Liborio Micali
Email micali@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 221

AF2000 Postnova

Separazione mediante flusso idrodinamico di soluzioni colloidali costituite da particelle di diverse dimensioni. Canale di separazione con diversi spessori. Detector a indice di rifrazione, UV-Vis e scattering di luce a 90°.

Nome e marca dello strumento AF2000 Postnova
Ubicazione Laboratorio Dinamica Sistemi Dispersi (sede Messina)
Anno fabbricazione/installazione 2014
Descrizione caratteristiche operative Canale di separazione con diversi spessori.
Detector a indice di rifrazione, UV-Vis e scattering di luce a 90°.
Campi di applicazione Separazione dimensionale, caratterizzazione formulazioni farmaceutiche; Particle size per uso alimentare e industriale.
Note sullo stato d’uso dello strumento
Responsabile
Nome e Cognome Valentina Villari
Email villari@ipcf.cnr.it
Telefono +39 090 39762 219

Sistema criogenico per basse temperature. Oxford Instruments (UK)

Nell’intervallo fra 300 e 4 K la temperatura è controllata per mezzo di un sistema PID (Intelligent Temperature Control: ITC, Oxford Instruments) che regola il flusso di liquido criogenico e il riscaldamento per mezzo di un criostato a flusso continuo (CF1200, Oxford Instr.) di tipo statico.

Nome e marca dello strumento Sistema criogenico per basse temperature. Oxford Instruments (UK)
Ubicazione IPCF-CNR Pisa. Edificio HF2
Anno fabbricazione/installazione 1999
Descrizione caratteristiche operative Stabilità della temperatura a 4 K 0,01 K.
Campi di applicazione Misure spettroscopiche in campo magnetico.
Note sullo stato d’uso dello strumento Funzionante
Responsabile
Nome e Cognome Luca Pardi
Email luca.pardi@pi.ipcf.cnr.it
Telefono +39 050 3152531